這種寬松的态度，放眼全國所有科研院，也是獨一份了。
陸澤感激應下，開始着手新的研究。
萬事俱備，對于新型手機芯片的開發，本應踏上日程。
然而僅是半個月後，他就又再次皺起了眉頭。
不是自己構思的問題，也不是開發中遇到了無法解決的困難。
而是光刻機的能力，無法跟上！
這台duv光刻機，又稱深紫外光刻機，波長193納米，制程7納米。
對于大多數手機芯片的開發，都足夠了。
哪怕是現今市面的高端機型也一樣。
然而陸澤要做的，卻是史無前例的碳基芯片！
不管是蝕刻深度還是其他，都遠比普通高端機型更精密。
因此，他需要另一種更強大的光刻機。
也就是euv光刻機！
這玩意又叫極紫外光刻機，波長隻有135納米，制程更是控在了5納米以下。
可以說euv光刻機，就是duv光刻機的超級加強版！
放眼全世界，都是最頂級的激光技術！
目前全世界隻有一家公司可以制作euv光刻機，但卻受漂亮國管制，禁止向大夏銷售。
而大夏在光刻機研發上，一直是弱項。
就連次一級的duv光刻機，都無法做到完全自主研制，更别提euv光刻機了。
徹徹底底的被國外卡脖子。